三星电子:用极紫外光刻量产业界最小14纳米DRAM芯片

时间:2021-10-13 09:54:43 来源: TechWeb


12日,存储芯片制造商三星电子宣布,它已开始使用极紫外光刻(EUV)技术量产业界最小的14纳米DRAM芯片。

三星电子表示,EUV技术减少了多图案绘制中的重复步骤,提高了图案绘制的准确,从而提高了能和产量,缩短了开发时间。

利用最新的DDR5标准,三星14纳米DRAM将帮助解锁前所未有的高达7.2Gbps的速度,这是DDR4速度(3.2Gbps)的2倍多。

该公司表示,即将开始量产DDR5,并预计最新工艺将使生产率提高20%,功耗降低20%。

据悉,三星是全球最大的存储芯片和智能手机制造商之一。在日举办的晶圆代工论坛上,该公司宣布,将从2025年开始量产2nm芯片,并计划从2022年上半年开始生产客户设计的3nm芯片,第二代3nm芯片预计将在2023年生产。


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